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气氛真空箱式炉
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气氛真空箱式炉

1300-1500℃
10-125L
氢、氮混配箱式炉
纯钼棒

气氛真空箱式炉


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商品参数
  • 最高温度:1300-1500℃
  • 炉膛尺寸:10-125L
  • 保护气氛:氢、氮混配箱式炉
  • 加热方式:纯钼棒
商品描述

气氛真空箱式炉



气氛真空箱式炉




箱式炉


产品参数



  主要用途:电子陶瓷、半导体、发光材料等产品的水份、有机溶剂的中高温烧成、除碳、排胶、烧成等工艺;也可用于气氛真空实验、测试或者小试生产等。
  主要特点:独特气氛加热系统,效率高,超轻质纤维材料保温,电控响应迅速,节能环保。模块化设计,产品系列齐全。
  使用温度:600℃-1600℃。
  常用气氛:氮气、氢气、氢氮混合气体或者真空状态使用等。
  功能选件:耐热钢洁净外密封炉膛、独特的保护气氛系统、超轻质全纤维炉膛、计算机集成控制系统、温度曲线记录打印、气氛检测分析系统、设备净化应用。

备注:功能可根据客户需求专门定制。


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