FXR真空箱式炉

FXR系列真空箱式炉

产品参数

　　主要应用：大采用双层壳体结构，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，主要应用于材料金属低真空、还原性、保护气氛下的热处理工艺，亦可用于特殊领域的材料热处理工艺。
　　主要特点：具有温场均匀、表面温升低、升降温速率高、节能等特点，模块化设计，产品系列齐全，炉门水冷系统。
　　使用温度：50℃-1700℃。
　　常用气氛：空氮气、氩气、氧气、氢气、CO、真空气氛。
　　功能选件：耐炉内检测系统、真空系统、保护气氛系统、计算机集成控制系统、温度曲线记录打印、气氛检测分析系统、设备净化应用。